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高溫*納米壓痕測(cè)試儀 (UNHT3 HTV)
儀器簡(jiǎn)介:
高溫納米壓痕測(cè)試儀是測(cè)量小載荷下納米尺度機(jī)械性能的測(cè)試系統(tǒng),溫度在 800 °C 以下的薄膜和涂層的硬度和彈性模量。專 利 UNHT 技術(shù)與獨(dú)特的加熱功能結(jié)合,可提供在任何溫度下的高穩(wěn)定性測(cè)量解決方案。
主要特點(diǎn):
●環(huán)境條件下低熱漂移 (< 0.5 nm/min) 和整個(gè)溫度范圍內(nèi)低熱漂移 (< 3 nm/min)。
●高載荷框架剛度 (>>106 N/m) 和低框架柔度 (<<0.1 nm/mN):兩套獨(dú)立的位移和載荷傳感器與高精度電容傳感器結(jié)合,可選擇“控制位移”和“載荷控制”模式。
●高真空系統(tǒng)具有 5 軸磁懸浮渦輪泵和緩沖系統(tǒng),允許在測(cè)量期間關(guān)閉初級(jí)泵,使振動(dòng)降至*低。
●獨(dú)特的加熱控制系統(tǒng)(3 項(xiàng)專 利待批),采用3 個(gè)紅外 (IR) 加熱器分別用于給壓痕針尖、參比針尖和樣品進(jìn)行加熱,以及 4 個(gè)熱電偶用于將樣品表面溫度控制到 變化在0.1°C 內(nèi)。
●符合 ISO 14577 和 ASTM E2546 **標(biāo)準(zhǔn)
技術(shù)指標(biāo):
載荷 |
|
*大載荷 |
100 mN |
載荷分辨率 |
6 nN |
本底噪音 |
0.5 [rms] [μN(yùn)]* |
位移 |
|
*大位移 |
100 μm |
位移分辨率 |
0.003 nm |
本底噪音 |
0.15 [rms] [nm]* |
|
|
*限真空度 |
10? mBar |
*高溫度 |
800 °C |
***實(shí)驗(yàn)室條件下規(guī)定的本底噪音值,并使用減震臺(tái)。